摘要
PZT/BMN异质叠层薄膜作为一种重要的功能材料，在电子器件微型化和高性能化的发展趋势下展现出巨大的应用潜力。
本综述首先介绍了PZT和BMN两种材料的特点及应用，以及异质叠层薄膜的界面结构类型和表征方法。
随后，文章重点探讨了界面结构对PZT/BMN异质叠层薄膜电学性能和光学性能的影响，详细分析了界面层厚度、界面粗糙度、元素扩散等因素对薄膜介电、压电、铁电、光吸收、光致发光等性能的影响机制。
最后，文章总结了PZT/BMN异质叠层薄膜的研究现状，并展望了其未来的发展趋势，指出如何通过界面结构调控实现薄膜性能优化是未来研究的重点方向。
关键词：PZT/BMN异质叠层薄膜；界面结构；电学性能；光学性能；性能调控
#1.1PZT与BMN材料
钛酸锆铅(Pb(Zr,Ti)O3,PZT)是一种应用广泛的压电材料，具有优异的压电性能、介电性能和铁电性能[1]。
它属于钙钛矿型结构，可以通过改变Zr/Ti比例来调节其居里温度和电学性能。
铌镁酸铋(Bi(Mg1/2Ti1/2)O3,BMN)是一种具有高居里温度的弛豫铁电材料，具有较高的介电常数和低介电损耗[12]。
#1.2异质叠层薄膜与界面结构
异质叠层薄膜是指由两种或多种不同材料薄膜交替生长形成的复合薄膜。
这种结构可以结合不同材料的优异性能，实现单一材料无法获得的性能提升[2]。
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